В этой работе мы проанализировали неустойчивость Вейбеля (WI) в полурелятивистском случае, когда предполагается модифицированная изотропная функция распределения Юттнера-Максвелла с учетом релятивистских эффектов. Для этого мы рассматриваем неоднородную плазму в присутствии высокого лазерного поля. Из полурелятивистского уравнения Фоккера-Планка и уравнений Максвелла мы установили дисперсионные соотношения и вывели скорость роста WI. Из этого следует, что эффект частоты столкновений и высокая плотность плазмы в условиях анизотропной температуры уменьшают спектр скорости роста мод Вейбеля, этот результат ясно показывает, что предыдущие анализы WI из-за анизотропии температуры, эффекта столкновений и выбора плотности плазмы могут быть оценены значения скорости роста WI.